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[求助补充材料] Effects of shear and bending strains on domain structures in freestanding ferroelectric thin films from phase-field simulations
剪切和弯曲应变对独立铁电薄膜畴结构的影响
相关领域
材料科学 铁电性 极化（电化学） 薄膜 电场 应变工程 磁滞 凝聚态物理 复合材料 光电子学 纳米技术 物理 电介质 化学 硅 量子力学 物理化学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0225448
DOI
10.1063/5.0225448 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Changqing Guo; Jing Wang; Houbing Huang
出版日期：2024-08-05
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无辜小海豚 在 2024-11-29 19:04:38 发布自湖北，悬赏 20 积分
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