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 Characterization of the distribution of defects introduced by plasma exposure in Si substrate 等离子体暴露在硅衬底中引入的缺陷分布的表征
相关领域
等离子体
材料科学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Yoshihiro Sato; Satoshi Shibata; Akira Uedono; Keiichiro Urabe; Koji Eriguchi 出版日期：2018-12-31 |
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