标题 |
![]() 掺杂剂浓度对原位磷掺杂外延硅薄膜干氧化过程中微观结构和应变状态的影响
相关领域
掺杂剂
外延
材料科学
硅
兴奋剂
基质(水族馆)
晶格常数
分析化学(期刊)
薄膜
氧化物
微观结构
热氧化
化学工程
图层(电子)
纳米技术
复合材料
化学
冶金
光电子学
光学
物理
地质学
工程类
海洋学
衍射
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:Hwa-Yeon Ryu; Minhyung Lee; Dae‐Hong Ko 出版日期:2020-06-28 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|