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High carrier mobility tungsten-doped indium oxide films prepared by reactive plasma deposition in pure argon and post annealing 纯氩气中反应等离子体沉积和后退火制备高载流子迁移率掺钨氧化铟薄膜
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Gan Tian; Jingmei Li; Lili Wu; Jingquan Zhang; Xia Hao; et al 出版日期:2022-02-01 |
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