The role of nitrogen addition in C4F8/Ar plasma to modulate the plasma process from polymerization to etching

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标题	The role of nitrogen addition in C4F8/Ar plasma to modulate the plasma process from polymerization to etching C4F8/Ar等离子体中氮的添加对等离子体从聚合到刻蚀过程的调节作用相关领域蚀刻（微加工）等离子体刻蚀基质（水族馆）等离子体氟碳化合物氮气聚合物 X射线光电子能谱图层（电子）分子等离子体处理氟聚合氧气化学分析化学（期刊）沉积（地质）化学工程有机化学海洋学生物古生物学量子力学工程类地质学物理沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112466
DOI	10.1016/j.vacuum.2023.112466 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Woojin Park; Jonggu Han; Solee Park; Se Youn Moon 出版日期：2023-10-01
求助人	StevenZhao 在 2024-02-01 11:01:59 发布自湖北，悬赏 10 积分
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