标题 |
Near-zero-adhesion-enabled intact wafer-scale resist-transfer printing for high-fidelity nanofabrication on arbitrary substrates
在任意衬底上实现高保真纳米制造的近零粘附完整晶片级抗蚀剂转移印刷
相关领域
制作
纳米技术
材料科学
薄脆饼
转印
纳米电子学
纳米光刻
抵抗
纳米结构
平版印刷术
纳米光子学
光刻
纳米尺度
光电子学
图层(电子)
医学
替代医学
病理
复合材料
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DOI | |
其它 |
期刊:International Journal of Extreme Manufacturing 作者:Zhiwen Shu; Bo Feng; Peng Liu; Lei Chen; Huikang Liang; et al 出版日期:2023-11-03 |
求助人 | |
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