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标题
Breakdown voltage and TDDB performance improvement by optimizing the PECVD dielectric film characteristics in MIM capacitors
优化MIM电容器PECVD介质膜特性改善击穿电压和TDDB性能
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿 电容器 材料科学 介电强度 等离子体增强化学气相沉积 击穿电压 电介质 薄膜电容器 光电子学 电击穿 工程物理 电气工程 复合材料 电压 电子工程 化学气相沉积 栅极电介质 工程类 晶体管
网址
https://doi.org/10.1016/j.microrel.2024.115358
DOI
10.1016/j.microrel.2024.115358 doi
其它 期刊：Microelectronics Reliability
作者：Huihui Wu; Haisheng Miao; Zhenhua Song; Zhaofeng Li
出版日期：2024-03-14
求助人
ddg 在 2024-11-27 11:31:25 发布自江苏，悬赏 10 积分
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