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标题
Enhancement of removing OH bonds from low-temperature deposited silicon oxide films by adding water vapor into NH3 gas annealing at 130 oC
130℃NH3气体退火中加入水蒸气增强低温沉积氧化硅薄膜OH键的去除
相关领域
退火（玻璃） 水蒸气 氧化物 硅 材料科学 氧化硅 分析化学（期刊） 无机化学 化学工程 化学 光电子学 环境化学 有机化学 氮化硅 冶金 工程类
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad8b8b
DOI
10.35848/1347-4065/ad8b8b doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Susumu Horita
出版日期：2024-10-25
求助人
jellorio 在 2024-12-11 16:00:00 发布自福建，悬赏 10 积分
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