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 The dependence of aluminum nitride film crystallography on sputtering plasma composition 氮化铝薄膜结晶学与溅射等离子体成分的关系
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：C. R. Aita; C. J. Gawlak 出版日期：1983-04-01 |
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