Top-down fabrication of Ge nanowire arrays by nanoimprint lithography and hole gas accumulation in Ge/Si core–shell nanowires

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标题	Top-down fabrication of Ge nanowire arrays by nanoimprint lithography and hole gas accumulation in Ge/Si core–shell nanowires Ge/Si核——壳纳米线中空穴气体积累及压印光刻自上而下制备Ge纳米线阵列相关领域纳米线材料科学纳米压印光刻蚀刻（微加工）锗纳米技术光电子学制作硅场效应晶体管透射电子显微镜晶体管图层（电子）医学替代医学物理病理电压量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.158656
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.158656 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Yong-Lie Sun; Wipakorn Jevasuwan; Naoki Fukata 出版日期：2024-01-01
求助人	Jeremy King 在 2024-11-12 11:09:38 发布自日本，悬赏 10 积分
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