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 Novel DNQ PACs for high-resolution i-line lithography 用于高分辨率i线光刻的新型DNQ PACs
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：William R. Brunsvold; Nicholas K. Eib; Christopher F. Lyons; Steve S. Miura; Marina V. Plat; et al 出版日期：1992-06-01 |
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