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标题
The Role of RF Sputtering Parameters on the Uniformity and Stability ofTb4O7Thin Films on Silicon Substrates for Passivation Applications
射频溅射参数对硅衬底上Tb4O7薄膜钝化均匀性和稳定性的影响
相关领域
钝化 材料科学 溅射 退火（玻璃） 硅 分析化学（期刊） 光致发光 微晶 多晶硅 薄膜 光电子学 纳米技术 复合材料 冶金 图层（电子） 化学 薄膜晶体管 色谱法
网址
https://doi.org/10.1088/1402-4896/ada40a
DOI
10.1088/1402-4896/ada40a doi
其它 期刊：Physica Scripta
作者：Abubakar A. Sifawa; Sabah M. Mohammad; I. S. Usman; Mundzir Abdullah; Md Rumon Shahrier; et al
出版日期：2024-12-30
求助人
acdc 在 2025-04-01 16:46:45 发布自安徽，悬赏 10 积分
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