| 标题 |
[高分]
  Sub-micron lines patterning into silica using water developable chitosan bioresist films for eco-friendly positive tone e-beam and UV lithography 使用水可显影壳聚糖生物抗蚀剂膜在二氧化硅中图案化亚微米线，用于生态友好的正色调电子束和紫外光刻
相关领域
抵抗
平版印刷术
壳聚糖
材料科学
电子束光刻
光刻胶
蚀刻（微加工）
纳米技术
浸没式光刻
等离子体刻蚀
极紫外光刻
X射线光刻
环境友好型
化学工程
光电子学
图层（电子）
工程类
生物
生态学
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| 其它 | Caillau M, Chevalier C, Cremillieu P, et al. Sub-micron lines patterning into silica using water developable chitosan bioresist films for eco-friendly positive tone e-beam and UV lithography[C]//Optical Microlithography XXXI. SPIE, 2018, 10587: 225-239. |
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