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 Chemical-mechanical polishing improvements and subsurface damage elimination for Cz grown (010) β-Ga2O3 substrates Cz生长（010）β-Ga2O3衬底的化学机械抛光改进和亚表面损伤消除
相关领域
材料科学
抛光
化学机械平面化
冶金
复合材料
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| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Robert M. Lavelle; William J. Everson; Daniel J. Erdely; Luke A.M. Lyle; Scott W. Pistner; et al 出版日期：2025-01-31 |
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