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Roles of SiH3and SiH2Radicals in Particle Growth in rf Silane Plasmas
SiH3和SiH2自由基在射频硅烷等离子体粒子生长中的作用
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Hiroharu Kawasaki; Hiroshi Ohkura; Tsuyoshi Fukuzawa; Masaharu Shiratani; Yukio Watanabe; et al 出版日期:1997-07-01 |
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