Coater/developer-based techniques to achieve tight pitches towards high-NA EUV

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标题	Coater/developer-based techniques to achieve tight pitches towards high-NA EUV 基于涂布机/显影剂的高NA EUV紧间距技术相关领域极紫外光刻平版印刷术抵抗多重图案临界尺寸材料科学下一代光刻蚀刻（微加工）光刻纳米技术表面粗糙度制作纳米光刻极端紫外线表面光洁度浸没式光刻过程（计算）光电子学计算机科学电子束光刻光学激光器物理图层（电子）复合材料替代医学病理操作系统医学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2657290
DOI	10.1117/12.2657290 doi
其它	期刊：作者：Kanzo Kato; Lior Huli; Nathan Antonovich; David Hetzer; Steven Grzeskowiak; et al 出版日期：2023-05-01
求助人	kuxingzhe1993 在 2024-03-05 11:16:51 发布自山东，悬赏 20 积分
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