标题 |
Recent Advances In Silicon Carbide Chemical Mechanical Polishing Technologies
碳化硅化学机械抛光技术的新进展
相关领域
化学机械平面化
薄脆饼
材料科学
磨料
碳化硅
抛光
泥浆
钻石
复合材料
纳米技术
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Micromachines 作者:Chi-Hsiang Hsieh; Che‐Yuan Chang; Yi-Kai Hsiao; Chao‐Chang A. Chen; Chang-Ching Tu; et al 出版日期:2022-10-16 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|