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 Recent Progress in Simple and Cost‐Effective Top‐Down Lithography for ≈10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography 用于≈10 nm尺度纳米图案的简单且经济的自上而下光刻的最新进展：从边缘光刻到二次溅射光刻
相关领域
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电子束光刻
计算机科学
薄膜
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期刊：Advanced Materials 作者：Woo‐Bin Jung; Sungwoo Jang; Soo‐Yeon Cho; Hwan‐Jin Jeon; Hee‐Tae Jung 出版日期：2020-04-03 |
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