标题 |
The preliminary study of etching characteristics of atmospheric pressure trifluoromethane plasma jet etching
常压三氟甲烷等离子体射流刻蚀特性的初步研究
相关领域
蚀刻(微加工)
大气压等离子体
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材料科学
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等离子体
反应离子刻蚀
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物理
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机械
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其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Yu-Ching Sung; Wenlin Yang; Chun Huang 出版日期:2024-10-02 |
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