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 The preliminary study of etching characteristics of atmospheric pressure trifluoromethane plasma jet etching 常压三氟甲烷等离子体射流刻蚀特性的初步研究
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yu-Ching Sung; Wenlin Yang; Chun Huang 出版日期：2024-10-02 |
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