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标题
Effects of direct current electric field on corrosion behaviour of copper, Cl− ion migration behaviour and dendrites growth under thin electrolyte layer
直流电场对薄电解质层下铜腐蚀行为、Cl-离子迁移行为和枝晶生长的影响
相关领域
电解质 腐蚀 材料科学 极化(电化学) 扫描电子显微镜 铜水管的冲蚀腐蚀 电场 离子 直流电 阻挡层 复合材料 冶金 图层(电子) 分析化学(期刊) 电压 化学 电极 电气工程 物理 工程类 物理化学 有机化学 量子力学 色谱法
网址
DOI
10.1016/s1003-6326(14)63059-4 doi
其它 期刊:Transactions of Nonferrous Metals Society of China
作者:Hualiang Huang; Zhi‐Quan Pan; Xingpeng Guo; Yubing Qiu
出版日期:2014-01-01
求助人
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