Ultrathin Aluminum Oxide Films Induced by Rapid Thermal Annealing for Effective Silicon Surface Passivation

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标题	Ultrathin Aluminum Oxide Films Induced by Rapid Thermal Annealing for Effective Silicon Surface Passivation 快速热退火诱导超薄氧化铝薄膜有效钝化硅表面相关领域钝化材料科学硅退火（玻璃）氧化物铝热氧化氧化硅图层（电子）活化能原子层沉积化学工程形成气体金属氧化物薄膜晶体管纳米技术光电子学冶金化学薄膜晶体管物理化学氮化硅工程类
网址	https://doi.org/10.1002/pssr.202100267
DOI	10.1002/pssr.202100267 doi
其它	期刊：Physica Status Solidi (rrl) 作者：Jun Chen; Peng Wang; Can Liu; Guoqiang Yu; Tao Wang; et al 出版日期：2021-07-30
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