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标题
Line width roughness control and pattern collapse solutions for EUV patterning
用于EUV图案化的线宽粗糙度控制和图案塌陷解决方案
相关领域
极紫外光刻 极端紫外线 平版印刷术 抵抗 材料科学 表面光洁度 线条宽度 多重图案 进程窗口 浸没式光刻 临界尺寸 光学 下一代光刻 光电子学 计算机科学 纳米技术 电子束光刻 物理 复合材料 激光器 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.879513
DOI
10.1117/12.879513 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Karen Petrillo; George Huang; Dominic Ashworth; Jacque H. Georger; Liping Ren; et al
出版日期：2011-03-17
求助人
小熊 在 2025-01-12 22:56:49 发布自辽宁，悬赏 20 积分
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