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  Controlled Deposition of Lead Iodide and Lead Chloride Thin Films by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition 低压化学气相沉积法控制沉积碘化铅和氯化铅薄膜
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期刊：Coatings 作者：Siphelo Ngqoloda; Christopher J. Arendse; T.F.G. Muller; Siphesihle S. Magubane; Clive J. Oliphant 出版日期：2020-12-11 |
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