标题 |
Imaging the Thickness of Passivation Layers for Crystalline Silicon with Micron‐Scale Spatial Resolution Using Spectral Photoluminescence
利用光谱光致发光以微米级空间分辨率成像晶体硅钝化层的厚度
相关领域
材料科学
钝化
硅
晶体硅
薄脆饼
光电子学
非晶硅
光致发光
单晶硅
氮化硅
光伏系统
纳米技术
电气工程
工程类
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Solar RRL 作者:Hieu T. Nguyen; Steve Johnston; Rabin Basnet; Harvey Guthrey; P. Dippo; et al 出版日期:2017-10-30 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|