标题 |
Overall aspect for designing magnetron sputtering plasma sources and their applications in the deposition of ITO films
磁控溅射等离子体源的总体设计及其在ITO薄膜沉积中的应用
相关领域
溅射沉积
等离子体
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溅射
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其它 |
期刊:AIP advances 作者:Nisha; Bibhuti B. Sahu 出版日期:2024-05-01 |
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