Electron beam direct write lithography: the versatile ally of optical lithography

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标题	Electron beam direct write lithography: the versatile ally of optical lithography 电子束直写光刻：光学光刻的万能盟友相关领域平版印刷术下一代光刻模版印刷无光罩微影抵抗计算光刻电子束光刻极紫外光刻材料科学 X射线光刻多重图案纳米技术光刻计算机科学光电子学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.22.4.041404
DOI	10.1117/1.jmm.22.4.041404 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Fabien Laulagnet; Jacques-Alexandre Dallery; Laurent Pain; Michael May; B. Hemard; et al 出版日期：2023-06-12
求助人	濮阳幻竹在 2024-08-06 17:00:55 发布自广东，悬赏 20 积分
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