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 Study on the internal field and conduction mechanism of atomic layer deposited ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films 原子层沉积Hf0.5Zr 0.5 O2铁电薄膜的内场及导电机理研究
相关领域
材料科学
图层（电子）
薄膜
机制（生物学）
铁电性
领域（数学）
原子层沉积
热传导
凝聚态物理
纳米技术
复合材料
光电子学
电介质
哲学
物理
数学
认识论
纯数学
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| 其它 |
期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Min Hyuk Park; Hong Jip Kim; Yoon Jun Kim; Taehwan Moon; K. D. Kim; et al 出版日期：2015-01-01 |
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