| 标题 |
 Numerical modeling of gas‐phase reactions of tetraethoxysilane/O2/Ar atmospheric dielectric barrier discharge for deposition 四乙氧基硅烷/O2/Ar常压介质阻挡放电沉积气相反应的数值模拟
相关领域
介质阻挡放电
氧气
分解
沉积（地质）
大气压力
分析化学（期刊）
化学
电介质
碳纤维
化学工程
化学分解
材料科学
有机化学
复合材料
古生物学
海洋学
光电子学
沉积物
复合数
工程类
生物
地质学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Jiaxin Chang; Dong Dai; Fei Kong; Tao Shao 出版日期：2023-04-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
薰硝壤
不配.
Singularity
Henry
浅尝离白
8R60d8
juziyaya
个性的紫菜
shinysparrow
xiaxiao
iNk
有人
咖啡豆
寻道图强
Leonardi
竹筏过海
pcr163
肯德鸭
毛豆爸爸
xjcy
皖公网安备34019202002308
