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 The effects of chemical gradients and photoresist composition on lithographically generated line edge roughness 化学梯度和光刻胶成分对光刻线边缘粗糙度的影响
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Timothy B. Michaelson; Adam R. Pawloski; Alden Acheta; Yukio Nishimura; C. Grant Willson 出版日期：2005-05-04 |
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