| 标题 |
Deposition, stabilization and characterization of zirconium oxide and hafnium oxide thin films for high k gate dielectrics
用于高k栅介质的氧化锆和氧化铪薄膜的沉积、稳定和表征
相关领域
铪
表征（材料科学）
高-κ电介质
材料科学
锆
沉积（地质）
氧化锆
电介质
氧化物
栅极电介质
薄膜
无机化学
光电子学
化学
纳米技术
冶金
电气工程
地质学
晶体管
古生物学
工程类
电压
沉积物
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| 其它 |
期刊： 作者：Yong Gao 出版日期：2004-01-01 |
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