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An approach to reduce surface charging with cryogenic plasma etching using hydrogen-fluoride contained gases
含氟化氢气体低温等离子体刻蚀降低表面带电的方法
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网址
https://doi.org/10.1063/5.0173553
DOI
10.1063/5.0173553 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Shih‐Nan Hsiao; Makoto Sekine; Kenji Ishikawa; Yuki Iijima; Yoshinobu Ohya; et al
出版日期：2023-11-20
求助人
Liangstar 在 2024-11-29 15:48:49 发布自上海，悬赏 10 积分
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