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标题
Patterning challenges for direct metal etch of ruthenium and molybdenum at 32 nm metal pitch and below
在32nm金属间距及以下直接金属蚀刻钌和钼的图案化挑战
相关领域
蚀刻（微加工） 钼 材料科学 铜互连 钌 金属 纳米技术 生产线后端 光电子学 溅射 腐蚀坑密度 反应离子刻蚀 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001791
DOI
10.1116/6.0001791 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Stefan Decoster; Elisabeth Camerotto; Gayle Murdoch; Souvik Kundu; Quoc Toan Le; et al
出版日期：2022-05-01
求助人
zho 在 2024-12-18 23:28:37 发布自吉林，悬赏 10 积分
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