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Electrical uniformity analyses on 12-inch Si-based Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric capacitor devices by atomic layer deposition
12英寸硅基Hf0.5Zr 0.5 O2铁电电容器的原子层沉积电均匀性分析
相关领域
原子层沉积
材料科学
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期刊:Progress in Natural Science: Materials International 作者:Wen-Juan Ding; Yu Liu; Zhiqiang Xiao; Li Gao; Yuchen Li; et al 出版日期:2024-05-25 |
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