标题 |
Performance Upper Limit of sub‐10 nm Monolayer MoS2 Transistors
亚10nm单层MoS2晶体管的性能上限
相关领域
二硫化钼
材料科学
单层
晶体管
光电子学
阈下摆动
半导体
弹道极限
硅
场效应晶体管
极限(数学)
弹道传导
纳米技术
电气工程
电压
电子
物理
数学分析
工程类
冶金
量子力学
射弹
数学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Advanced electronic materials 作者:Zeyuan Ni; Meng Ye; Jianhua Ma; Yangyang Wang; Ruge Quhe; et al 出版日期:2016-08-02 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|