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 Influence of annealing and Al2O3 properties on the hydrogen-induced passivation of the Si/SiO2 interface 退火和Al2O3性质对Si/SiO2界面氢致钝化的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：G. Dingemans; F. Einsele; W. Beyer; M. C. M. van de Sanden; W. M. M. Kessels 出版日期：2012-05-01 |
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