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 Operando XPS for Plasma Process Monitoring: A Case Study on the Hydrogenation of Copper Oxide Confined under h-BN 用于等离子体过程监测的Operando XPS：h-BN下氧化铜氢化的案例研究
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期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：J. Trey Diulus; Andrew E. Naclerio; J. Anibal Boscoboinik; Ashley R. Head; Evgheni Strelcov; et al 出版日期：2024-04-29 |
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