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Improvement of haze ratio of DC (direct current)-sputtered ZnO:Al thin films through HF (hydrofluoric acid) vapor texturing
HF（氢氟酸）气相织构提高直流溅射ZnO：Al薄膜雾度比
相关领域
氢氟酸 蚀刻（微加工） 材料科学 薄雾 基质（水族馆） 薄膜 溅射 纹理（宇宙学） 化学工程 分析化学（期刊） 光电子学 光学 复合材料 冶金 纳米技术 化学 图层（电子） 人工智能 工程类 海洋学 有机化学 地质学 物理 色谱法 图像（数学） 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1016/j.energy.2013.09.001
DOI
10.1016/j.energy.2013.09.001 doi
其它 期刊：Energy
作者：Youn-Jung Lee; Hyeongsik Park; Minkyu Ju; Youngkuk Kim; Jinjoo Park; et al
出版日期：2013-10-02
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科研小白 在 2025-01-10 16:31:13 发布自云南，悬赏 10 积分
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