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标题
Challenges and recent advances in HfO2-based ferroelectric films for non-volatile memory applications
非易失性存储器应用中HfO2基铁电薄膜的挑战和最新进展
相关领域
非易失性存储器 材料科学 铁电性 纳米技术 计算机科学 光电子学 电介质
网址
https://doi.org/10.1016/j.chip.2024.100101
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1016/j.chip.2024.100101 doi
其它 期刊：Chip
作者：Minghao Shao; Ruiting Zhao; Houfang Liu; Wen-Jia Xu; Yaxing Guo; et al
出版日期：2024-06-01
求助人
上上谦 在 2024-12-22 14:39:59 发布自河北，悬赏 10 积分
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