Fully Atomic Layer Deposition Induced InAlO Thin Film Transistors

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标题	Fully Atomic Layer Deposition Induced InAlO Thin Film Transistors 全原子层沉积诱导InAlO薄膜晶体管相关领域原子层沉积图层（电子）材料科学沉积（地质）薄膜逐层光电子学原子层外延薄膜晶体管纳米技术化学地质学沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113455
DOI	10.1016/j.vacuum.2024.113455 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Xingwei Ding; Jun Yang; Jianzhu Li; Jianhua Zhang 出版日期：2024-07-01
求助人	仁爱吐司在 2024-08-25 15:41:48 发布自北京，悬赏 10 积分
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