New resist and underlayer approaches toward EUV lithography

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标题	New resist and underlayer approaches toward EUV lithography 相关领域极紫外光刻抵抗材料科学平版印刷术下一代光刻光电子学 X射线光刻多重图案光刻光刻胶干涉光刻极端紫外线纳米技术临界尺寸
网址	https://doi.org/10.1117/12.2503107
DOI	10.1117/12.2503107 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018 作者：Toshiro Itani; Patrick P. Naulleau; Eric Hendrickx; Paolo A. Gargini; Kurt G. Ronse; et al 出版日期：2018
求助人	宁友灵在 2022-05-09 16:13:39 发布，悬赏 10 积分
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