| 标题 |
 Investigation of the Impact of Pad Surface Texture from Different Pad Conditioners on the CMP Performance 相关领域
材料科学
化学机械平面化
纹理（宇宙学）
抛光
多孔性
薄脆饼
涂层
表面光洁度
复合材料
粗糙度（岩土工程）
纳米技术
计算机科学
人工智能
图像（数学）
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| 其它 |
期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Aniruddh Khanna; Mayu Yamamura; Veera Raghava Reddy Kakireddy; Ashwin Chockalingam; Puneet Jawali; et al 出版日期：2020-08-03 |
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