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标题
Effects of film type and nanotopography of wafers on oxide CMP characteristics
薄膜类型和晶片纳米形貌对氧化物CMP特性的影响
相关领域
纳米地形 材料科学 薄脆饼 氧化物 纳米技术 光电子学 冶金
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DOI
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其它 期刊:Journal of the Korean Physical Society
作者:T. Katoh; Byoung-Sun Ko; J. H. Park; Hyun-Sik Yoo; Jea Gun Park; et al
出版日期:2002-01-01
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lgh 在 2025-04-11 11:12:28 发布自陕西,悬赏 10 积分
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