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 Comparison of Arsenic and Boron Diffusion in Polycrystalline/Single‐Crystal Silicon Systems 多晶/单晶硅体系中砷和硼扩散的比较
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Keeseong Park; S. Batra; Sanjay K. Banerjee; G. Lux; R. Manukonda 出版日期：1991-02-01 |
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