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 The Possibility of Using 193 NM Immersion Lithography Process For 5 NM Logic Design Rules 将193 NM浸没光刻工艺用于5 NM逻辑设计规则的可能性
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期刊： 作者：Qiang Wu; Yanli Li; Xianhe Liu; Sheng Wang 出版日期：2023-06-26 |
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