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 Simulation of SiO2 etching in an inductively coupled CF4 plasma 电感耦合CF4等离子体中SiO2刻蚀的模拟
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期刊：Modern Physics Letters B 作者：Qing Xu; Yuxing Li; Xiaoning Li; Jia-Bin Wang; Fan Yang; et al 出版日期：2017-02-28 |
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