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标题
Etching Mechanism Based on Hydrogen Fluoride Interactions with Hydrogenated SiN Films Using HF/H2 and CF4/H2 Plasmas
HF/H2和CF4/H2等离子体中氟化氢与氢化SiN膜相互作用的刻蚀机理
相关领域
氟化氢 蚀刻(微加工) 等离子体 无水的 氟碳化合物 分析化学(期刊) 化学 氢氟酸 材料科学 图层(电子) 无机化学 有机化学 量子力学 物理
网址
DOI
10.1021/acsaelm.3c01258 doi
其它 期刊:ACS applied electronic materials
作者:Shih‐Nan Hsiao; Nikolay Britun; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; Makoto Sekine; Masaru Hori
出版日期:2023-12-12
求助人
juwairen119 在 2024-09-19 20:17:34 发布自河南,悬赏 10 积分
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