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 Nucleation‐Limited Ferroelectric Orthorhombic Phase Formation in Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜中成核受限铁电正交相的形成
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期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Young Hwan Lee; Seung Dam Hyun; Hae Jin Kim; Jun Shik Kim; Chanyoung Yoo; et al 出版日期：2018-12-17 |
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