标题 |
Study of the initial stages of TiO2 growth on Si wafers by XPS
硅晶片上TiO2生长初期的XPS研究
相关领域
X射线光电子能谱
薄脆饼
材料科学
蒸发
化学计量学
同种类的
分析化学(期刊)
电子束物理气相沉积
薄膜
图层(电子)
结合能
化学工程
纳米技术
物理化学
原子物理学
化学
热力学
物理
色谱法
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Yamin Leprince‐Wang 出版日期:2002-02-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|