Reducing Contact Resistance and Boosting Device Performance of Monolayer MoS2 by In Situ Fe Doping

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标题	Reducing Contact Resistance and Boosting Device Performance of Monolayer MoS2 by In Situ Fe Doping 原位Fe掺杂降低MoS2单层接触电阻提高器件性能相关领域材料科学单层接触电阻兴奋剂半导体光电子学欧姆接触纳米技术纳米电子学晶体管薄脆饼电气工程电压图层（电子）工程类
网址	https://doi.org/10.1002/adma.202200885
DOI	10.1002/adma.202200885 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：Hui Li; Mo Cheng; Peng Wang; Ruofan Du; Luying Song; et al 出版日期：2022-04-03
求助人	goldenfleece 在 2025-01-10 11:24:34 发布自福建，悬赏 10 积分
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