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 Holographic masks for computational proximity lithography with EUV radiation 用于EUV辐射计算邻近光刻的全息掩模
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期刊： 作者：Serhiy Danylyuk; Valerie Deuter; Maciej Grochowicz; Jan Biller; Sascha Brose; et al 出版日期：2018-10-03 |
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